抛光粉的基本要求

（1）微粉粒度均匀一致，在允许的范围之内；颗粒的大小及均匀度决定了抛光速度和精度，过筛的筛网目数 能掌握粉体相对的粒度的值，平均粒度决定了抛光粉颗粒大小的整体水平。

（2）有较高的纯度，不含机械杂质。

（3）有良好的分散性和吸附性，以保证加工过程的均匀和，可适量添加LBD-1分散剂提高悬浮率；好的 抛光粉要有较好的悬浮性，粉体的形状和粒度大小对悬浮性能具有一定的影响，纳米粒径的抛光粉的悬 浮性相对的要好一些，所以精抛一般选择纳米抛光粉。

（4）粉末颗粒有一定的晶格形态，破碎时形成锐利的尖角，以提高抛光效率；粉体的晶型是团聚在一起的单 晶颗粒，决定了粉体的切削性、耐磨性及流动性。粉体团聚在一起的单晶颗粒在抛光过程中分离（破碎），使其切削性、耐磨性逐渐下降，颗粒为球型的抛光粉具有良好的切削性、耐磨性和流动性。

（5）有合适的硬度和密度，和水有很好的浸润性和悬浮性，因为抛光粉需要与水混合，硬度相对大的粉体具 有较快的切削效果，同时添加一些助磨剂等等也同样能提高切削效果；不同的应用领域会有很大出入，包括自身加工工艺。

为了增加氧化铈的抛光速度，通常在氧化铈抛光粉加入氟以增加磨削率。铈含量较低的混合稀土抛光粉通常掺有3－8的氟；纯氧化铈抛光粉通常不掺氟。

对ZF或F系列的玻璃来说，因为本身硬度较小，而且材料本身的氟含量较高，因此选用不含氟的抛光粉为好。

氧化铈抛光液

氧化铈抛光液是以微米或亚微米级CeO2为磨料的氧化铈研磨液，该研磨液具有分散性好、粒度细、粒度分布均匀、硬度适中等特点。

适用于高精密光学仪器，光学镜头，微晶玻璃基板，晶体表面、集成电路光掩模等方面的精密抛光。

结晶粉的使用

1、石材结晶粉使用效果的要求: 地面平整,翻新完成后使用或晶面日常保养。

2、取本大理石油亮型结晶粉湿磨工艺：加水调成浆状(比例为1:6)。用石材晶面机配合百洁垫(红垫、白垫、纳米垫、兽毛垫都可以，根据石材材质和经济性决定)研磨3-5分钟后,保持地面湿润，用清水轻抛洗净吸水机吸干。后再用干净纤维垫轻抛2-3分钟效果更佳!

3、取本大理石超亮晶面粉干磨工艺：加水调成浆状(比例为1:1)。用石材晶面机配合纤维垫研磨,磨干地面。(晶面机阻力增大时即晶面浆结晶层形成时可在地面洒几滴水至磨干)

4、观察地面结晶层亮度、油润度，可按上述方法施工二遍，可达到满意结晶面，做翻新工程时可以直接交工。

5、地面干燥后，可用干净尘推推尘。